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    更新時(shí)間:2023-04-11

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    更新時(shí)間:2018-10-10

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    Logitech CP3000化學(xué)拋光設(shè)備能很好的滿(mǎn)足腐蝕拋光溶劑,同樣也適用于腐蝕性較弱的Chemlox拋光,如半導(dǎo)體晶片的背拋光?,F(xiàn)在的電子器件對(duì)于晶片尺寸,表面平整度、平行度及厚度控制都有非??量痰目刂埔?,而CP3000化學(xué)拋光機(jī),特別是跟Logitech的晶片處理系統(tǒng)配合使用作為Z后一個(gè)步驟時(shí),能*達(dá)到這些控制標(biāo)準(zhǔn)。
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